چگالش به روش تبخیر شیمیایی یا رسوب شیمیایی فاز بخار به اختصار (CVD) یکی از روش‌های شیمیایی لایه نشانی است که در تولید لایه‌های بسیار خالص میکرو بلوری و نانو بلوری در فناوری نیم رساناها به کار می‌رود. از ویژگی های این دستگاه می توان به موارد زیر اشاره نمود؛

• امکان انجام گرمایش و سرمایش سریع با تعبیه دو عدد ریل در قسمت زیرین کوره و جابجایی سریع آن
• بهینه شده برای سنتز گرافین و ساختار های گرافین گونه مانند MoS2
• یک سیستم CVD کامل شامل تمامی اتصالات لازم
• سیستم های یک و دو ناحیه ای با حداکثر دمای 1350 درجه سانتیگراد
• شامل تیوب های کوارتز و/یا آلومینا و/یا استیل ضد زنگ
• شامل پمپ خلا روتاری و خلاسنج پیرانی به همراه اتصالات مربوطه
• قابلیت کار در دماها و اتمسفر های مختلف
• کنترل دقیق و مستقل بر روی دمای هر کدام از نواحی گرمایی
• کنترل دقیق و مستقل شار گاز ها با استفاده از کنترلر های شار جرمی (MFCs)
• شامل شیر های سوزنی و مخلوط کننده گاز برای مخلوط کردن گازهای واکنش گر و حامل قبل از ورود به راکتور واکنش

این سیستم به استثنای موارد ذیل دارای گارانتی یک ساله از سوی شرکت نانو شات می باشد؛
صدمات ناشی از حمل ونقل نامناسب، نوسانات برق، آتش سوزی یا حرارت زیاد، تماس یا نفوذ مواد شیمیایی خورنده، ضربه و استفاده غلط و یا بی توجهی به دستورالعمل های ذکر شده در دفترچه راهنمای دستگاه، هرنوع دستکاری در هولوگرام و دستگاه از سوی اشخاصی غیر از نمایندگان شرکت، اعمال ضربه و شوک الکتریکی به دستگاه، صدمه فیزیکی به سیستم کنترلی الکترونیکی دستگاه